35#鋼管生產中采用氣相沉積技術的操作方法及目的

氣相沉積技術[1] 是利用氣相中發生的物理、化學過程，在35#鋼管表面形成功能性或裝飾性的金屬非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術按照成膜機理，可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。
 

化學氣相淀積[CVD(Chemical Vapor Deposition)]，指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在超大規模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。
CVD特點：淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復性好，臺階覆蓋性優良。

化學氣相沉積（CVD）
將工件置于反應室中，抽真空并加熱至900~1100℃。如要涂覆TiC層，則將鈦以揮發性氯化物（如TiCl4)與氣體碳氫化合物（如CH4）一起通入反應室內，這時就會在工表面發生化學反應生成TiC，并沉積在工件表面形成6~8μm厚的覆蓋層。工件經氣相沉積鍍覆后，再進行淬火，回火處理，表面硬度可達到2000~4000HV

物理氣相沉積（PVD）
物理氣相沉積是通過蒸發，電離或濺射等過程，產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在35#鋼管表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，目前應用較廣的是離子鍍。
離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料（如金屬鈦）氣化蒸發離子化，離子經電場加速，以較高能量轟擊工件表面，此時如通入CO2，N2等反應氣體，便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層，硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右，且覆蓋層附著力強，適用于高速鋼工具，熱鍛模等。

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